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鼓動する未来、
パルスで拓く。

High-Power Impulse Magnetron Sputtering
ー マテリアル技術の限界を超える挑戦 ー

次世代PVDの扉を開く、
最高精度のHiPIMSソリューション

最先端の機能性薄膜開発に求められる、

より高精度・高自由度な成膜制御を実現するために──。

当社は、HiPIMS技術の社会実装の促進を実現し、我が国のPVDプロセス技術レベルの向上に寄与することを目指し、豊富な研究実績に基づくプロセス開発ソリューションを提案します。装置・材料メーカーの皆様の課題を、学理に基づく技術力で共に乗り越え、次世代PVD技術の革新を支援します。

HiPIMS技術導入への
フィージビリティ検証

既存のPVD技術に対する優位性の検証やHIPIMS技術導入に向けた技術相談やデモサンプルの作製をお受けします。

HiPIMSプロセス設計に関する技術サポート

より複雑化するHiPIMSプロセスのパラメータ設計に関する技術サポートなど各種薄膜材料に対応したプロセス設計をご提案します。

HiPIMS電源の導入

各種薄膜材料の形成に応じたプロセス安定性や制御性における付加価値を高めた最新鋭のHiPIMS電源をご提案します。電源のテスト環境の提供および装置の立上げまでトータルでサポートします。

高機能薄膜材料を実現する先端プロセス開発

最先端の技術課題に対する

共同研究および受託研究開発をお受けします。5年・10年先を見据えた先進プロセス開発をご支援します。

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10年以上の学術知見を、
産業界の最前線へ 

2010年代からの長年にわたる研究開発を通じて蓄積されたPVD・HiPIMS分野の知見を基盤に、国内産業界に革新的なソリューションを

提供する東京都立大学発のスタートアップベンチャーです。

 

半導体微細配線材料、切削工具・金型の高耐久薄膜、光学デバイス用薄膜、さらには医療機器表面処理に至るまで、薄膜材料に対する要求は年々高まり、従来のPVD技術では対応が困難な領域が急増しています。とりわけ、次世代プロセスとして期待されるHiPIMS技術は、国内においても導入ニーズが高まっているものの、技術的障壁やサポート体制の不足が普及のボトルネックとなっています。

当社は、こうした課題を解決するため、これまでに蓄積した多様な材料系に対する豊富なプロセスノウハウを活かし、装置メーカー様、材料メーカー様、受託加工メーカー様に対して個別最適化されたプロセス設計支援を行います。

 

国内におけるHiPIMS技術の社会実装を加速し、日本の薄膜製造技術のレベルアップに貢献してまいります。

数字で見る HiPIMS 技術革新*

* vs. 直流スパッタ Gudmundsson et al., J. Vac. Sci. Technol. A 30 030810 (2012), G. Greczynski et al., J. Appl. Phys. 134, 140901 (2023)

1000倍

投入電力密度

1000倍

​プラズマ密度

20倍

金属のイオン化率

1/4

成膜温度

1/10

消費エネルギー

HiPIMSの真価を、
いまこそ産業に。

高密度・高機能な薄膜を目指してHiPIMSに挑んだものの、思うような結果が出ずに足踏みしていませんか?
Propulsersは、“見て”“学び”“動かし”“試す”までを一貫して支援するHiPIMSの実践集団です。現場の課題を技術で突破し、次の開発へ踏み出す力を提供します。

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